用光學藝術點亮多元共融的無限可能！荷蘭當代藝術家與工程師共同創作「光點之舞」，2024《龍耀台南》燈會登場～

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML），長期致力於打造科學創新與多元共融的工作環境，宣布將於 2024《龍耀台南》台灣燈會展出由荷蘭當代藝術家 Gijs van Bon（吉斯·范·邦）與 ASML 工程師所共同創作、結合藝術及光學的「光點之舞」（Drop of Light）裝置藝術作品。

「光點之舞」於 2021 年在荷蘭 Eindhoven 舉辦的「GLOW 光影節（GLOW Light Festival）」首次登場，透過光學技術，搭起藝術與科技的橋樑，以文化拉近人與科學的距離。今年適逢 ASML 成立 40 周年，特別將它帶到台灣並在台南燈會中亮相。

由荷蘭當代藝術家 Gijs van Bon 以及 ASML 工程師攜手合作而成的「光點之舞」，以 ASML 獨步全球的 EUV 微影技術為設計概念，將光投射在快速滴落的液態螢光液上，創造出引人入勝的圖像設計。其中所要克服的是需確保每滴落下的螢光液都能夠被光擊中，透過工程師的精密測量設計，讓控制螢光液的閥門都能夠精準開啟和關閉，確保藝術作品的每一個細節都能夠如期呈現。此裝置藝術採用環保材質的液態螢光液，每次演出落下的液滴皆會被回收至容器中並重複使用。

ASML 亞洲企業溝通總監羅凱琳表示：「在 COVID-19 解封後，ASML 的工程師與藝術家共同打造以 ASML EUV 微影系統內的光源生成技術為靈感，透過光與液體相互作用的藝作品。共同創作的過程中，不僅要挑戰物理學上的不可能，更期盼用這獨一無二的光學藝術，象徵以創新與合作走出困境與黑暗。｣

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source:GAP

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